Dosiero:Photolithography etching process.svg
Grando de tiu PNG antaŭprezento de tiu SVGa dosiero: 120 × 600 rastrumeroj. Aliaj distingivoj: 48 × 240 rastrumeroj | 96 × 480 rastrumeroj | 153 × 768 rastrumeroj | 204 × 1 024 rastrumeroj | 409 × 2 048 rastrumeroj | 512 × 2 560 rastrumeroj.
Bildo en pli alta difino (SVG-dosiero, 512 × 2 560 rastrumeroj, grandeco de dosiero: 8 KB)
|
Jen dosiero de la Wikimedia-Komunejo. La priskribo en ties priskriba paĝo estas montrata suben.
|
|
Ĉi tiu SVG-dosiero enhavas enkonstruitan tekston, kiu estas tradukebla en vian lingvon uzante ilon por traduki SVG-dosierojn aŭ ajnan kapablan SVG-redaktilon. Por pliaj informoj vidu: Pri tradukado de SVG-dosieroj. |
W3C-validity not checked.
Resumo
| Priskribo |
English: Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. Note: Not to scale. |
| Fonto | Propra verko |
| Aŭtoro | Cmglee |
| Ceteraj versioj |
|
.svg)
Permesiloj:
Mi, la posedanto de la aŭtorrajto por ĉi tiu verko, ĉi-maniere publikigas ĝin laŭ la jenaj permesiloj:
Ĉi tiu dosiero estas disponebla laŭ la permesilo Krea Komunaĵo Atribuite-Samkondiĉe 3.0 Neadaptita.
- Vi rajtas:
- kunhavigi – kopii, distribui kaj publikigi la verkon
- aliigi – modifi, adapti, kompletigi, transformi, uzi la tutan verkon aŭ ties partojn, memstare aŭ en aliaj verkoj
- La verko rajtas esti kunhavigata nur:
- atribuite – Vi devas atribui aŭtorecon, liveri ligilon al la permesilo kaj marki ĉu ŝanĝoj estis faritaj. Faru tion en aprobinda maniero, tamen ne sugestante, ke permesinto aprobas vin aŭ vian uzon.
- samkondiĉe – Se vi rekombinas la verkon, transformas ĝin aŭ kreas devenaĵon bazitan sur ĝi, vi rajtas distribui la rezultan verkon nur laŭ la sama aŭ kongrua permesilo kompare kun ĉi tiu.
|
Estas permesite kopii, disdoni kaj/aŭ redakti ĉi tiun dokumenton, sen senŝanĝaj sekcioj, sen antaŭkovrilaj kaj sen dorskovrilaj tekstoj, laŭ la kondiĉoj de la Permesilo GNU por Liberaj Dokumentoj, Versio 1.2 aŭ ajna pli nova versio eldonita de la Free Software Foundation; sen Senŝanĝaj Sekcioj, Antaŭovrilaj Tekstoj aŭ Malantaŭkovrilaj Tekstoj. Kopio de la permesilo estas inkluzivita en la sekcio titolita GNU Free Documentation License. |
Vi povas elekti la permesilon preferatan.
Dosierhistorio
Alklaku iun daton kaj horon por vidi kiel la dosiero tiam aspektis.
| Dato/Horo | Bildeto | Grandecoj | Uzanto | Komento | |
|---|---|---|---|---|---|
| nun | 08:27, 17 apr. 2022 | | 512 × 2 560 (8 KB) | Djiboun | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for fr. |
| 13:18, 20 jun. 2020 |  | 512 × 2 560 (5 KB) | Mega deppa | Reverted to version as of 16:52, 9 October 2011 (UTC) | |
| 13:16, 20 jun. 2020 |  | 512 × 2 560 (8 KB) | Mega deppa | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ja. | |
| 16:52, 9 okt. 2011 |  | 512 × 2 560 (5 KB) | Cmglee | Align text, change enumeration and change colour to match Image:CMOS_fabrication_process.svg. | |
| 22:03, 30 sep. 2011 |  | 512 × 2 560 (5 KB) | Cmglee | Merge develop and remove exposed photoresist. | |
| 22:46, 29 sep. 2011 |  | 512 × 2 926 (5 KB) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 22:39, 29 sep. 2011 |  | 512 × 2 926 (5 KB) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 22:37, 29 sep. 2011 |  | 512 × 2 926 (5 KB) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 22:30, 29 sep. 2011 |  | 512 × 3 413 (5 KB) | Cmglee | {{Information |Description ={{en|1=Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. }} |Source ={{own}} |Author =Cmglee |Date |
Dosiera uzado
Neniu paĝo ligas al ĉi tiu dosiero.
Suma uzado de la dosiero
La jenaj aliaj vikioj utiligas ĉi tiun dosieron:
- Uzado en ar.wikipedia.org
- Uzado en ca.wikipedia.org
- Uzado en en.wikipedia.org
- Uzado en en.wikibooks.org
- Uzado en fa.wikipedia.org
- Uzado en fr.wikipedia.org
- Uzado en id.wikipedia.org
- Uzado en ja.wikipedia.org
- Uzado en www.wikidata.org
